Ultra Mark III Femtosecond (FS) Laser

Ultra Mark III Femtosecond (FS) Laser

ความแม่นยำระดับไมครอนสำหรับงานอุตสาหกรรมที่ต้องการคุณภาพสูงสุด

คุณสมบัติเด่น

• ความคมชัดเหนือกว่าเลเซอร์ Nanosecond: ทำเครื่องหมายคมชัด ไม่เบลอ ไม่ละลาย

• Cold Processing: ไม่มีความเสียหายทางความร้อน ปลอดรอยแตกหรือบิ่น เหมาะกับวัสดุเปราะบาง

• รองรับวัสดุหลากหลาย รวมถึงพื้นผิวโค้ง (5-axis) เช่น กระจก เซรามิก โลหะ

• ทำเครื่องหมายได้ทั้งแบบมองเห็นชัด (Visible) และซ่อนเร้น (Invisible) เพื่อการตรวจสอบย้อนกลับและความปลอดภัย

• บำรุงรักษาง่าย ไม่มีสารเคมีหรือวัสดุสิ้นเปลือง

สเปกหลัก

• ปรับ Pulse ได้ 250 fs – 10 ps, พลังงานสูงสุด 0.4 mJ

• ฟังก์ชันขั้นสูง: BiBurst, FEC

• ขนาดกะทัดรัด รองรับการทำงาน 24/7

• ความเสถียรสูง: ค่ากำลังแสงผันผวนต่ำกว่า 0.5%

การใช้งานหลัก

• การแพทย์: การผลิต Stent, Surgical Tools, งานไมโครคัตติ้งวัสดุทางการแพทย์

• อิเล็กทรอนิกส์ & เซมิคอนดักเตอร์: Microvias, Wafer Dicing, Thin Film Removal

• ยานยนต์ & อากาศยาน: หัวฉีดเชื้อเพลิง, Cooling Holes

• จอแสดงผล & อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์: OLED, Glass Scribing, Sensor Windows

• พลังงานแสงอาทิตย์ (Photovoltaic): Selective Laser Ablation, Glass Structuring

• สินค้าไฮเอนด์ & นาฬิกา: Cutting, Micro Welding, Micromachining